Máy đo độ dày lớp mạ đa dụng GalvanoTest 2000 và 3000

Máy đo độ dày lớp mạ GalvanoTest là thiết bị chuyên dụng dùng để đo độ dày của các lớp mạ điện trên nhiều loại vật liệu nền như thép, kim loại màu và vật liệu cách điện. Máy sử dụng nguyên lý coulometric, phương pháp cắt điện hóa. Bạn đọc thêm về nguyên lý này ở cuối bài viết.

Thiết bị có thể đo các lớp mạ đơn và đa lớp, với khả năng đo các lớp mạ rất mỏng, từ 0,05 micromet trở lên. GalvanoTest có hai phiên bản chính: loại 2000 và loại 3000. Cả hai đều được thiết kế để dễ sử dụng để đo độ dày lớp phủ, không đòi hỏi kỹ năng vận hành cao và chỉ cần ít thời gian đào tạo trước khi sử dụng.

Máy đo độ dày lớp mạ đa dụng
GalvanoTest 2000 và 3000

Máy có khả năng lưu trữ và đánh giá kết quả đo, với bộ nhớ lưu trữ lên đến 2000 kết quả, cùng với các tính năng đánh giá thống kê như hiển thị giá trị trung bình, độ lệch chuẩn, và hệ số biến thiên. GalvanoTest còn hỗ trợ kết nối với các thiết bị ngoại vi như máy in và máy tính thông qua giao diện RS 232 C.

Máy hoạt động với nguồn điện 110/220 V và có kích thước gọn nhẹ, phù hợp với nhiều môi trường làm việc.

• Đo hầu hết mọi sự kết hợp giữa lớp mạ và bề mặt nền.
• Phù hợp cho các lớp mạ đơn và đa lớp.
• Sử dụng nguyên lý coulometric, một phương pháp cắt điện hóa theo tiêu chuẩn DIN 50 955 và ISO 2177.
• Thích hợp cho các lớp mạ rất mỏng từ 0,05 micromet trở lên.

Đo độ dày lớp mạ

Thiết lập đo điển hình:

Đo các lớp mạ vàng trên bảng mạch in (PCB).

Ứng dụng của GalvanoTest 2000 và 3000

Phương pháp cắt điện hóa (coulometric) hoặc cắt anodic được sử dụng để đo độ dày của các lớp mạ điện trên hầu hết mọi loại vật liệu nền như thép, kim loại màu hoặc vật liệu cách điện. Các ứng dụng điển hình bao gồm: mạ niken trên thép, mạ kẽm trên thép, mạ thiếc trên đồng, mạ bạc trên đồng, hoặc mạ đồng trên epoxy.

Máy đo độ dày lớp mạ GalvanoTest

Đơn vị định vị trung tâm giúp định vị chính xác ô đo trên các khu vực nhỏ của mẫu thử. Ô đo được đặt lên mẫu thử và một miếng đệm được chèn giữa ô đo và mẫu thử để ngăn dung dịch không bị rò rỉ ra ngoài, đồng thời xác định chính xác diện tích cần cắt điện hóa, ví dụ như 1 mm².

Thiết bị đã sẵn sàng sử dụng và có thể được cắm vào máy đo điện tử. Dòng điện chạy qua dung dịch điện phân sẽ hòa tan khu vực xác định của lớp mạ thông qua phản ứng điện hóa. Khi quá trình cắt hoàn tất, một sự thay đổi điện áp đặc trưng sẽ tự động dừng quá trình cắt và độ dày lớp mạ sẽ được hiển thị dưới dạng micromet hoặc mils trên màn hình kỹ thuật số.

Nguyên lý đo

Dựa trên nguyên lý định luật Faraday, GalvanoTest thực hiện việc hòa tan điện phân của một khu vực được giới hạn chính xác trên mẫu thử. Một ô đo được lấp đầy bằng dung dịch điện phân được điều chỉnh đặc biệt cho sự kết hợp lớp mạ/bề mặt nền được chọn.

Kỹ thuật này đơn giản chỉ bao gồm việc loại bỏ một khu vực nhỏ, gần như không thể thấy được của lớp mạ mà không ảnh hưởng đến vật liệu nền. Phương pháp coulometric đảm bảo kết quả tối ưu và chính xác. GalvanoTest được thiết kế để dễ sử dụng, không yêu cầu kỹ năng vận hành cao và chỉ cần ít thời gian đào tạo trước khi sử dụng thực tế.

Tính năng của GalvanoTest loại 2000 và loại 3000

• Hơn 70 sự kết hợp lớp mạ/bề mặt nền (phiên bản tiêu chuẩn).
• Đo trên các bề mặt phẳng và cong.
• Đo trên các bộ phận nhỏ và dây.
• 10 loại kim loại được thiết lập sẵn: Cr, Ni, Cu, brass, Zn, Ag, Sn, Pb, Cd, Au (loại 2000) và 9 loại kim loại được thiết lập sẵn (loại 3000).
• Phạm vi đo: 0,05 … 75 μm.

Tế bào đo

• Với bơm tuần hoàn (loại 3000).
• Với máy nén khí (loại 2000).

Bề mặt đo:

• Miếng đệm 8 mm².
• Miếng đệm 4 mm².
• Mặt nạ 1 mm².
• Mặt nạ 0,25 mm².

Các cài đặt điều chỉnh để có kết quả tối ưu

• Tối đa 8 tốc độ cắt điện hóa trong khoảng 0,3–40 μm (0,012–1,57) mils/phút.
• Hệ số hiệu chuẩn có thể điều chỉnh trực tiếp; cài đặt cá nhân theo loại kim loại và bề mặt đo.
• Cài đặt hiệu chuẩn với sự hỗ trợ của tiêu chuẩn độ dày.
• Tốc độ ngắt biến thiên để loại bỏ nhiễu hoặc đo vùng hợp kim giữa lớp mạ và bề mặt nền.

Lưu trữ dữ liệu:

• Số lượng bộ nhớ cho các kim loại khác nhau: 10 (GalvanoTest 2000) và 18 (GalvanoTest 3000).
• Số lượng kết quả đo có thể lưu trữ và đánh giá: 2000.
• Bộ nhớ không mất dữ liệu lưu trữ tất cả các cài đặt hiệu chuẩn, kết quả đo và giá trị thống kê sau khi máy đo đã tắt.

Đánh giá thống kê:

• Hiển thị 6 giá trị thống kê – giá trị trung bình, độ lệch chuẩn, hệ số biến thiên, số lượng kết quả đo, giá trị đơn cao nhất và thấp nhất.

Giao diện GalvanoTest cho các thiết bị ngoại vi

• Giao diện cho máy in dữ liệu MiniPrint.
• Giao diện RS 232 C để kết nối với PC.
• Đầu ra analog để kết nối với máy ghi x-t để vẽ đồ thị đường cong điện áp.
• Điện báo dung dịch/dấu hiệu bão hòa (chỉ có trên GalvanoTest 3000).
• Nguồn điện: 110/220 V 50 – 60 Hz/10 Watt.
• Kích thước: 260x250x100 mm
• Trọng lượng: 2,5 kg.

Nguyên lý coulometric là gì?

Nguyên lý coulometric, được sử dụng trong máy đo độ dày lớp mạ GalvanoTest, là một phương pháp đo lường dựa trên định luật Faraday về điện phân. Trong quá trình này, một dòng điện được áp dụng để hòa tan một khu vực xác định của lớp mạ trên bề mặt mẫu thử.

Quá trình hòa tan này, còn gọi là cắt điện hóa, xảy ra trong một ô đo nhỏ chứa dung dịch điện phân, phù hợp với loại lớp mạ và vật liệu nền cụ thể.

Nguyên lý hoạt động của phương pháp này như sau: Khi dòng điện chạy qua dung dịch điện phân, các ion từ lớp mạ sẽ di chuyển vào dung dịch, làm giảm dần độ dày của lớp mạ trên diện tích đo đã xác định. Quá trình hòa tan này được giám sát bằng cách đo điện áp giữa các điện cực.

Khi lớp mạ được hòa tan đến mức nhất định, một sự thay đổi điện áp đặc trưng sẽ xảy ra, báo hiệu rằng quá trình cắt điện hóa đã hoàn tất. Độ dày của lớp mạ sau đó sẽ được tính toán dựa trên lượng điện đã sử dụng trong quá trình này và được hiển thị trên màn hình của máy dưới dạng micromet hoặc mils.

Phương pháp coulometric cho phép đo chính xác các lớp mạ rất mỏng và có thể phân biệt được các lớp mạ khác nhau trong các hệ thống đa lớp. Đây là phương pháp chi phí thấp nhưng hiệu quả cao trong việc đo lường độ dày lớp mạ trong các ứng dụng công nghiệp.

Khi mua máy GalvanoTest này cần lưu ý điều gì?
Hóa chất điện phân cho từng loại vật liệu có phải là một vấn đề không?

Khi mua máy đo độ dày lớp mạ GalvanoTest, có một số điểm cần lưu ý để đảm bảo thiết bị phù hợp với nhu cầu sử dụng:

Lựa chọn phiên bản máy

GalvanoTest có hai phiên bản chính là 2000 và 3000. Phiên bản 3000 có thêm các tính năng như bơm tuần hoàn dung dịch và khả năng đo các khu vực rất nhỏ, phù hợp với các ứng dụng đòi hỏi độ chính xác cao hơn hoặc xử lý các mẫu có hình dạng phức tạp. Việc lựa chọn phiên bản phù hợp với yêu cầu công việc là rất quan trọng.

1. Phụ kiện đi kèm: Xem xét các phụ kiện đi kèm với máy như miếng đệm, mặt nạ, hoặc các tế bào đo bổ sung. Những phụ kiện này sẽ ảnh hưởng đến khả năng đo các loại lớp mạ khác nhau và độ linh hoạt trong ứng dụng của máy.
2. Hóa chất điện phân: Đây là một yếu tố quan trọng khi sử dụng GalvanoTest. Mỗi loại vật liệu và lớp mạ đòi hỏi một loại dung dịch điện phân cụ thể để đảm bảo độ chính xác của phép đo. Việc sử dụng đúng loại dung dịch điện phân cho từng loại vật liệu là cần thiết để tránh làm hỏng mẫu thử và đảm bảo kết quả đo chuẩn xác. Dung dịch điện phân cần được mua từ nguồn uy tín và tuân thủ các hướng dẫn sử dụng để đạt được hiệu quả tốt nhất.
3. Hiệu chuẩn và bảo dưỡng: Để đảm bảo máy hoạt động đúng và duy trì độ chính xác cao, cần kiểm tra xem máy có kèm theo các tiêu chuẩn hiệu chuẩn cần thiết hay không, và việc bảo dưỡng định kỳ có dễ dàng thực hiện không.
4. Khả năng kết nối và lưu trữ dữ liệu: Nếu cần lưu trữ hoặc phân tích dữ liệu đo, hãy kiểm tra các khả năng kết nối của máy với máy tính hoặc máy in, cũng như dung lượng lưu trữ dữ liệu của máy.

Việc lưu ý các yếu tố trên sẽ giúp người mua chọn được phiên bản GalvanoTest phù hợp và sử dụng hiệu quả trong các ứng dụng công nghiệp.

Sự khác và giống nhau giữa hai phiên bản máy

Dưới đây là bảng so sánh giữa GalvanoTest 2000 và GalvanoTest 3000 sau khi đã được Việt hóa:

GalvanoTest 3000 cung cấp nhiều tính năng tiên tiến hơn so với GalvanoTest 2000, bao gồm phạm vi kim loại lớp phủ rộng hơn, bơm tuần hoàn tích hợp giúp quản lý dung dịch điện phân tốt hơn, và dung lượng lưu trữ dữ liệu lớn hơn.